Semmache, B., Kallel, S., & El Omari, H. (1999). Dépôt chimique en phase vapeur et à basse pression de couches minces à base de silicium dans un réacteur à lampes halogène. Canadian Journal of Physics, 77(9), 737. https://doi.org/10.1139/cjp-77-9-737
Chicago Style (17th ed.) CitationSemmache, B., S. Kallel, and H. El Omari. "Dépôt Chimique En Phase Vapeur Et à Basse Pression De Couches Minces à Base De Silicium Dans Un Réacteur à Lampes Halogène." Canadian Journal of Physics 77, no. 9 (1999): 737. https://doi.org/10.1139/cjp-77-9-737.
MLA (9th ed.) CitationSemmache, B., et al. "Dépôt Chimique En Phase Vapeur Et à Basse Pression De Couches Minces à Base De Silicium Dans Un Réacteur à Lampes Halogène." Canadian Journal of Physics, vol. 77, no. 9, 1999, p. 737, https://doi.org/10.1139/cjp-77-9-737.