APA (7th ed.) Citation

Lorenz, M., Storm, P., Gierth, S., Selle, S., von Wenckstern, H., & Grundmann, M. (2023). Diffundierter Sauerstoff als dominierender flacher Akzeptor in p‐Typ Kupferiodid‐Dünnfilmen. Chemie Ingenieur Technik (CIT), 95(11), 1786. https://doi.org/10.1002/cite.202300007

Chicago Style (17th ed.) Citation

Lorenz, Michael, Philipp Storm, Stephan Gierth, Susanne Selle, Holger von Wenckstern, and Marius Grundmann. "Diffundierter Sauerstoff Als Dominierender Flacher Akzeptor in P‐Typ Kupferiodid‐Dünnfilmen." Chemie Ingenieur Technik (CIT) 95, no. 11 (2023): 1786. https://doi.org/10.1002/cite.202300007.

MLA (9th ed.) Citation

Lorenz, Michael, et al. "Diffundierter Sauerstoff Als Dominierender Flacher Akzeptor in P‐Typ Kupferiodid‐Dünnfilmen." Chemie Ingenieur Technik (CIT), vol. 95, no. 11, 2023, p. 1786, https://doi.org/10.1002/cite.202300007.