High-efficiency clean EUV plasma source at 10–30 nm, driven by a long-pulse-width excimer laser. - Bollanti, S.; Bonfigli, F.; Burattini, E.; Di Lazzaro, P.; Flora, F.; Grilli, A.; Letardi, T.; Lisi, N.; Marinai, A.; Mezi, L.; Murra, D.; Zheng, C. (Applied Physics B: Lasers & Optics, 2003)