rdf-syntax-grammar
mods:
  schema location: http://www.loc.gov/mods/v3 http://www.loc.gov/standards/mods/v3/mods-3-2.xsd
  title info:
    title: Entendiendo la exposición
  name:
    name part: Stansfield, Andy
    role:
      role term: creator
    role:
      role term: autor
  name:
    name part: Cuéllar Sánchez, José Martín
    role:
      role term: tradutor
  type of resource: text
  origin info:
    place:
      place term: mx^
    date issued: 2016
    issuance: monographic
  language:
    language term: spa
  language:
    language term: eng
  physical description:
    extent: 196 páginas. : ilustraciones, fotografías ; 24 cm.
  table of contents: Luz -- Apertura -- Profundidad de campo -- Velocidad de obturación -- Velocidad ISO -- Rango dinámico -- Ajustes de imagen
  target audience: general
  note: Andy Stansfield ; traducido por José Martín Cuéllar Sánchez.
  note: Incluye glosario e índices analítico y onomástico
  note: Título original: Understanding exposure
  subject:
    topic: Exposición (Fotografía)
  subject:
    topic: Fotografía
    topic: Técnicas especiales
  classification: 771 S791e
  related item:
    title info:
      title: Understanding exposure
  identifier: 9786071725219
  record info:
    record content source: CO-BoSNA
    record creation date: 180524
    record change date: 20260706161848.0
    record identifier: 000096213
    language of cataloging:
      language term: spa