Dépôt chimique en phase vapeur et à basse pression de couches minces à base de silicium dans un réacteur à lampes halogène.
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| Title: | Dépôt chimique en phase vapeur et à basse pression de couches minces à base de silicium dans un réacteur à lampes halogène. (French) |
|---|---|
| Authors: | Semmache, B., Kallel, S., El Omari, H. |
| Source: | Canadian Journal of Physics; September 1999, Vol. 77 Issue 9, p737-743, 7p |
| Database: | Applied Science & Technology Source |
| ISSN: | 00084204 |
|---|---|
| DOI: | 10.1139/cjp-77-9-737 |
